Pinnacle300 12英寸槽式清洗设备
Pinnacle300 12 Inch Wet Bench Clean Tool
- 设备特点
-
- 可配备多药液工艺槽，支持DIO₃等附属功能
- 软件量身定制，具备快速更新能力
- 较高的温度控制稳定性
- 超高的补水精度
- 精准的蚀刻速率控制
- 优秀的干燥效果
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
- 适用工艺炉前、刻蚀/抛光后清洗、光阻、金属氧化物、氮化物去除、控挡片回收
- 适用领域集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微显示
